年产1000吨三氟化氮项⽬（特⽓⾏业纯度99.996%)

三氟化氮（Nitrogen Trifluoride），化学式NF3，是⼀种强氧化剂。作为⼀种重要的⼯业特种⽓体，具有⼔泛的天家
在微电⼦⼯业中，三氟化氮是⼀种优良的等离⼦蚀刻⽓体，在半导体芯⽚、平来显⽰器、光纤、光伏电池等制造领域，三氟化氮主要⽤作等离⼦蚀刻⽓体咔清洗剂。它还可以⽤于⾼能化学激光器，通过与氢反应在瞬间放出⼤量热玥宭应⽤。三氟化氮还可⽤作⾼能燃料，并且在⽕箭发射中作为氧化剂和推进剤体。

Ang nitrogen trifluoride, kemikal nga pormula nga NF3, usa ka kusgan nga ahente sa pag-oxidizing. Ingon usa ka hinungdanon nga espesyal nga gas sa industriya, kini adunay daghang mga aplikasyon.
Sa industriya sa microelectronics, ang nitrogen trifluoride usa ka maayo kaayo nga plasma etching gas; Sa semiconductor chip, flat panel display, optical fiber, photovoltaic cells ug uban pang manufacturing fields, nitrogen trifluoride kay gigamit isip plasma etching gas ug reaction cavity cleaning agent.
Mahimo usab kini gamiton sa mga high-energy nga kemikal nga laser aron makab-ot ang aplikasyon niini pinaagi sa pag-reaksyon sa hydrogen aron mobuga ang daghang kainit sa kalit. Ang nitrogen trifluoride gigamit usab isip high-energy fuel ug isip oxidizer ug propellant sa mga rocket launching.